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Fecha de publicaciónTítuloTipo de publicación/ Tipo de recursoAutor(es)Fecha de depósito
2010FTIR and electrical characterization of a-Si:H layers deposited by PECVD at different boron ratiosArtículoABDU ORDUÑA DIAZ; CARLOS GERARDO TREVIÑO PALACIOS; ALFONSO TORRES JACOME24-sep-2018