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Resultados por ítem:
| Fecha de publicación | Título | Tipo de publicación/ Tipo de recurso | Autor(es) | Fecha de depósito |
|---|---|---|---|---|
| 2008 | Boron incorporation and its effect on electronic properties of Ge:H films deposited by LF plasma | Artículo | ANDREY KOSAREV; ALFONSO TORRES JACOME; SALVADOR GALLARDO HERNANDEZ | 23-abr-2018 |