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Fecha de publicación	Título	Tipo de publicación/ Tipo de recurso	Autor(es)	Fecha de depósito
2010	FTIR and electrical characterization of a-Si:H layers deposited by PECVD at different boron ratios	Artículo	ABDU ORDUÑA DIAZ; CARLOS GERARDO TREVIÑO PALACIOS; ALFONSO TORRES JACOME	24-sep-2018