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Fecha de publicación | Título | Tipo de publicación/ Tipo de recurso | Autor(es) | Fecha de depósito |
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2008 | Very shallow boron junctions in Si by implantation and SOD diffusion obtained by RTP | Artículo | Jairo Plaza Castillo; ALFONSO TORRES JACOME; OLEKSANDR MALIK | 2-may-2018 |
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