Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:
http://inaoe.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1009/102| Desarrollo de tecnologías de fabricación de dispositivos para microfluídica | |
| CESAR BARTOLO PEREZ | |
| CLAUDIA REYES BETANZO | |
| Acceso Abierto | |
| Atribución-NoComercial-SinDerivadas | |
| Amorphous silicon Microfluidics Stress conrtrol | |
| Microufluídica es la ciencia y tecnología enfocada a procesar o manipular pequeñas cantidades de fluidos (De 10 a la -9 A 10 a la -18 litros), usando canales con dimensiones de decenas o cientos de micrometros. En estas dimensiones las propiedades de los fluidos son diferentes que en la macroescala y son aprovechadas a través de la fabricación de dispositivos que involucran varias disciplinas de conocimiento, tienendo muchas aplicaciones en el campo de la medicina, la investigación biológica y farmacéutica. El objetivo de este trabajo de investigación es fabricar dispositivos para microfluídica utilizando vidrio como material de sustrato y aprovechando las técnicas de fabricación de la industria de los semiconductores y de sistemas electromecánicos (MEMS). Particularmente, se caracterizan dos materiales enmascarantes, mecánica y morfológicamente, buscando disminuir su tensión residual para ser usados en el grabado húmedo del vidrio y obtener microcanales libres de defectos y con la menor rugosidad posible sobre la superficie del vidrio que pudiese afectar el desempeño del dispositivo. El primer material enmascarante es una bicapa Cr/Cu depositada por evaporación y el segundo una película de silicio amorfo depositada por PECVD. Para disminuir la tensión en la bicapa Cr/Cu, se ha encontrado que utilizando espesores de 50nm/250nm se logran obtener microcanales con hasta 93 µm de profundidad, mientras que para el silicio amorfo se ha determinado que las condiciones óptimas de depósito son: 60 °C con 800 mTorr de presión , 30 W de potencia, con flujo de silano y argón de 100 y 36 sccm respectivamente, y con un tratamiento térmico de 2 a 3 horas; en estas condiciones se han obtenido microcanales con hasta 186 µm de profundidad y con un adecuado sellado del dispositivo por el método de unión directa. | |
| Instituto Nacional de Astrofísica, Óptica y Electrónica | |
| 2015-09 | |
| Tesis de maestría | |
| Español | |
| Público en general | |
| Bartolo-Perez C. | |
| ELECTRÓNICA | |
| Aparece en las colecciones: | Maestría en Electrónica |
Cargar archivos:
| Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
|---|---|---|---|---|
| BartoloPC.pdf | 15.06 MB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |