Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:
http://inaoe.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1009/777| Estudio de la resistividad del material en base de FeCl3 para registros holográficos | |
| ROSAURA VALLEJO MENDOZA | |
| ARTURO OLIVARES PEREZ NIKOLAI KORNEEV ZABELLO | |
| Acceso Abierto | |
| Atribución-NoComercial-SinDerivadas | |
| Holographic interferometry Resistance measurement Polymers | |
| Se analizan las propiedades eléctricas de las películas orgánicas fotosensibles de volumen, partiendo de dos matrices fotosensibles para uso holográfico; nitrocelulosa y PVA. Ambas dopadas con FeCl3, comúnmente utilizando como fotosensibilizador. Con la técnica de cuatro puntas, se mide la resistividad de estas matrices, para evitar los efectos iónicos en la interface de material-electrodo, debido a que la película presenta un carácter hidrofílico, con la matriz de PVA, e hidrofóbico con la matriz de nitrocelulosa. | |
| Instituto Nacional de Astrofísica, Óptica y Electrónica | |
| 2012-08 | |
| Tesis de maestría | |
| Español | |
| Estudiantes Investigadores Público en general | |
| Vallejo-Mendoza R. | |
| ÓPTICA | |
| Versión aceptada | |
| acceptedVersion - Versión aceptada | |
| Aparece en las colecciones: | Maestría en Óptica |
Cargar archivos:
| Fichero | Tamaño | Formato | |
|---|---|---|---|
| VallejoMR.pdf | 2.51 MB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |