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Fecha de publicación | Título | Tipo de publicación/ Tipo de recurso | Autor(es) | Fecha de depósito |
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2010 | FTIR and electrical characterization of a-Si:H layers deposited by PECVD at different boron ratios | Artículo | Abdu Orduña Díaz; CARLOS GERARDO TREVIÑO PALACIOS; MARLON ROJAS LOPEZ; RAUL JACOBO DELGADO MACUIL; VALENTIN LOPEZ GAYOU; ALFONSO TORRES JACOME | 11-jul-2019 |