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Fecha de publicación | Título | Tipo de publicación/ Tipo de recurso | Autor(es) | Fecha de depósito |
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ene-2013 | Physical and electrical characteristics of atomic-layer deposition-HfO₂ films deposited on Si substrates having different silanol Si-OH densities | Artículo | Joel Molina Reyes; CARLOS ZUÑIGA ISLAS; Wilfrido Calleja Arriaga; Pedro Rosales Quintero; ALFONSO TORRES JACOME | 28-mar-2022 |