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http://inaoe.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1009/885| Proceso de fabricación de superficies selectivas de frecuencia | |
| VICTOR HUGO GOMEZ RIVERA MIGUEL VELAZQUEZ DE LA ROSA BECERRA JOEL MOLINA REYES | |
| Acceso Abierto | |
| Atribución-NoComercial-SinDerivadas | |
| El principal objetivo de este reporte técnico es obtener la receta de fabricación de superficies selectivas de frecuencia sobre membranas de nitruro de silicio para facilitar el proceso de fabricación a la comunidad científica o estudiantil que desee implementarlo. La importancia de obtener recetas del proceso de fabricación es facilitar los datos y los pasos a seguir con condiciones especificas de fabricación en cada etapa, esto ahorra en tiempo y recursos sobre la caracterización de cada proceso. En este reporte se ilustra la forma de obtener membranas de nitruro de silicio (Si3N4) para ser utilizadas como soporte mecánico para superficies selectivas de frecuencia, que en principio funciona como filtros dicroicos y que en un futuro se utilizarán como absorbedores de radiación electrómagnetica para bolómetros del tipo TES. | |
| Instituto Nacional de Astrofísica, Óptica y Electrónica | |
| 2012-06 | |
| Reporte | |
| Español | |
| Estudiantes Investigadores Público en general | |
| ELECTRÓNICA | |
| Versión aceptada | |
| acceptedVersion - Versión aceptada | |
| Aparece en las colecciones: | Reportes Técnicos de Electrónica |
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