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Fecha de publicación | Título | Tipo de publicación/ Tipo de recurso | Autor(es) | Fecha de depósito |
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dic-2007 | Obtención de profundidades de unión xj menores a 0.4 μm, con una óptima activación de los dopantes implantados o depositados | Tesis de doctorado | Jairo Plaza Castillo | 11-oct-2017 |
2008 | Very shallow boron junctions in Si by implantation and SOD diffusion obtained by RTP | Artículo | Jairo Plaza Castillo; ALFONSO TORRES JACOME; OLEKSANDR MALIK | 2-may-2018 |
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