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http://inaoe.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1009/1418| Proceso de grabado seco de silicio monocristalino para aplicaciones en guías de onda coplanares | |
| REBECA LEAL ROMERO IGNACIO ENRIQUE ZALDIVAR HUERTA J. APOLINAR REYNOSO HERNANDEZ CLAUDIA REYES BETANZO | |
| Acceso Abierto | |
| Atribución-NoComercial-SinDerivadas | |
| Silicio monocristalino Guía de onda coplanar (CPW) Grabado seco SRO Mono-crystalline silicon Coplanar waveguide (CPW) Dry etching SRO | |
| En este trabajo se estudia la utilización de grabado anisotrópico y SRO con la finalidad de mejorar el rendimiento de las guías de onda coplanares. Se presentan resultados experimentales de grabado seco de silicio monocristalino para su aplicación en la fabricación de guías de onda coplanares (CPW's) empleando un reactor RIE/ICP. Se observa la contribución de los componentes tanto físicos como químicos de grabado seco. Los gases reactivos que se utilizan son el hexafluoruro de azufre (SF6) mezclado con oxígeno (O2). Para el grabado se emplean enmascarantes de fotorresina (FR) y óxido de silicio (SiO2), este último es obtenido mediante depósito químico en fase vapor a presión atmosférica (APCVD). Se obtienen velocidades de grabado de 2.8 a 3.4 µm/min al utilizar SiO2 como enmascarante. In this work, the anisotropic etching and the use of silicon rich oxide (SRO) are studied in order to improve the waveguide coplanar (CPW). Experimental results of dry etching of mono–crystalline silicon for application in CPW's using RIE/ICP reactor are presented. The contribution of the physical as much chemical components of dry etching is observed. The reactive gases that are used are Sulfur hexafluoride (SF6) mixed with oxygen (O2). For etching the silicon masks of photo–resist and silicon oxide (SiO2) are used, this last one is obtained by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD). Speed of etching from 2.8 to 3.4 µm/min are obtained when using SiO2 as mask. | |
| REVISTA MEXICANA DE FÍSICA | |
| 2010 | |
| Artículo | |
| Español | |
| Estudiantes Investigadores Público en general | |
| Leal-Romero, R., et al., (2010). Proceso de grabado seco de silicio monocristalino para aplicaciones en guías de onda coplanares, Revista Mexicana de Física, Vol. 56 (1): 92–96 | |
| ELECTRÓNICA | |
| Versión aceptada | |
| acceptedVersion - Versión aceptada | |
| Aparece en las colecciones: | Artículos de Electrónica |
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